重庆纯水设备

**纯水设备系统在半导体晶片制造过程中重起到至关重要的作用。在一个生产周期内，一个晶片与**纯水的接触**过35次，在任何一个环节发生供水中断或者水质不合格都会影响晶片的质量，甚至导致产品的报废。水处理之家网认为，稳定可靠的**纯水设备系统是**高品质半导体晶片可持续生产的关键。

用纯水对水质要求相对来说更加严格，更加高。常要求**纯水的电阻值应**15兆以上。为保证用**纯水的用水安全，**纯水的处理设备整个系统也都由全不锈钢材质组合而成，而且在用水点之前都必须装备杀菌装置。我们公司从整个行业用**纯水的特点出发，针对不同用户对高纯水的不同要求，采用反渗透，EDI等工艺，比较有针对性地设计出成套高纯水处理工艺，以满足药厂、的纯化水制取、大输液制取的用水要求。

设备特点
1.采用进口反渗透膜，脱盐率高，使用寿命长，运行成本低廉。
2.*酸碱处理，环保无“三废”。
3.自动控制，自动维护，水质在线检测，随时监测水质变化。
4.切合当地水质的个性化设计，*满足需求。
5.全自动控制系统，日常操作较为简便，系统自动进行冲洗维护，制取产品水过程不需要任何手工操作。
6.双流路设计，不但可以制造**纯水，还生产纯水，方便用户实验室的不同级别用水要求。
7.预留了升级空间。可以根据用户需要轻松实现功能升级。
技术参数
电子级**纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

工业纯水设备的稳定运行及使用寿命，与日常的运行管理息息相关，正确操作需注意以下事项。
1、反渗透膜的水解易造成反渗透装置的性能恶化，因此要严格控制水的PH值，给水PH值在3-11范围内。
2、如果给水的FI值**标，膜组件的表面会附着污垢，出现这种现象须进行清洗。
3、因注入的次氯酸钠量不足，造成给水中的游离氯不能测出时，工业纯水设备的膜组件会有黏泥，使压差增加，所以要严格控制进入膜组件的游离氯量，制止**过规定值导致膜氧化分解。
4、给水不能**过设计标准值，否则会造成膜组件提前劣化。另外，浓水的不得小于设计标准值，否则会使工业纯水设备的压力容器流动不均匀，由过分浓缩使膜组件析出污垢。
5、高压泵不可中断运转，否则装置容易故障。
工业纯水设备
6、夏天给水温度高，产水就多，减低操作压力的话，会导致产水水质下降。因此，建议操作压力保持，减少膜组件的数量便可。
7、冬季水温下降，为了制止反渗透装置停运时析出二氧化硅，应用低压给水置换反渗透装置内的水。
8、如果没有适当的压实，会减低工业纯水设备除盐率，因此入口压力要保持适当的裕度。
9、保安过滤器压差加快上升，是因为浑浊度的泄漏；出现压差加快下降的现象，是元件紧固螺丝松动，或是精密过滤器元件破损等原因造成的。
10、如果工业纯水设备入口和出口的压差**标，说明给水在设计值以上，或者是膜面受到污染。重新调整，或者更换膜元件便可。
公司常年研发和引进国内外技术，力求生产技术精益求精。公司拥有整套完善的环保设备技术管理服务体系，以保证客户产品质量。欢迎新老客户前来参观。
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