**纯水设备系统在半导体晶片制造过程中重起到至关重要的作用。在一个生产周期内,一个晶片与**纯水的接触**过35次,在任何一个环节发生供水中断或者水质不合格都会影响晶片的质量,甚至导致产品的报废。水处理之家网认为,稳定可靠的**纯水设备系统是**高品质半导体晶片可持续生产的关键。
食品生产纯水设备工艺:
不锈钢水箱+原水加压泵-→自动多介质过滤器+ 自动活性炭过滤器→(自动软水器) - +过滤器→一级反渗透一→PH调节→纯水箱+*二级反渗透- +无菌水箱+纯水泵+臭氧杀菌系统一, 紫外线杀菌器+ 微孔过滤器+用水点
食品生产纯水设备特点:
采用反渗透纯化水处理技术,前置预处理配套使用+反渗透系统,有效去除水中各种盐份及杂质,使产水达到纯化水标准,产水水质稳定、操作简便、运行费用低、绿色环保无污染、维护方便等优点。
反渗透纯水设备用于新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、**大规模集成电路需用大量的高纯水、**纯水清洗半成品、成品。
集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对**纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。都应该使用多种纯化技术相结合制取高品质的纯水,这样才能提高纯水的纯度,符合用水需求。
工业纯水设备的稳定运行及使用寿命,与日常的运行管理息息相关,正确操作需注意以下事项。
1、反渗透膜的水解易造成反渗透装置的性能恶化,因此要严格控制水的PH值,给水PH值在3-11范围内。
2、如果给水的FI值**标,膜组件的表面会附着污垢,出现这种现象须进行清洗。
3、因注入的次氯酸钠量不足,造成给水中的游离氯不能测出时,工业纯水设备的膜组件会有黏泥,使压差增加,所以要严格控制进入膜组件的游离氯量,制止**过规定值导致膜氧化分解。
4、给水不能**过设计标准值,否则会造成膜组件提前劣化。另外,浓水的不得小于设计标准值,否则会使工业纯水设备的压力容器流动不均匀,由过分浓缩使膜组件析出污垢。
5、高压泵不可中断运转,否则装置容易故障。
工业纯水设备
6、夏天给水温度高,产水就多,减低操作压力的话,会导致产水水质下降。因此,建议操作压力保持,减少膜组件的数量便可。
7、冬季水温下降,为了制止反渗透装置停运时析出二氧化硅,应用低压给水置换反渗透装置内的水。
8、如果没有适当的压实,会减低工业纯水设备除盐率,因此入口压力要保持适当的裕度。
9、保安过滤器压差加快上升,是因为浑浊度的泄漏;出现压差加快下降的现象,是元件紧固螺丝松动,或是精密过滤器元件破损等原因造成的。
10、如果工业纯水设备入口和出口的压差**标,说明给水在设计值以上,或者是膜面受到污染。重新调整,或者更换膜元件便可。
公司常年研发和引进国内外技术,力求生产技术精益求精。公司拥有整套完善的环保设备技术管理服务体系,以保证客户产品质量。欢迎新老客户前来参观。
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主要经营污水处理设备、活性炭设备、滤筒除尘器、玻璃钢净化塔、脱硫塔。
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